фоторезист простой и надёжный

фоторезист для радиолюбителей

негативный
малотоксичный

экспонируется уф-светом
проявляется водой,- быстро,-1-30сек
дубится в уф свете
сушится недолго
разрешающая способность 0.1-0.08 мм
имеет "ступеньку" в характеристике фоточствительности подавляющую помехи и неравномерность
уровня "чёрного" изображения фотошаблона
кислотоустойчивость не зависит от фоторезистивного слоя, поскольку он наносится вторым слоем на кислотоустойчивый лак полностью смываемый с незасвеченных элементов изображения растворителем
в цене -дешевле чем предлагаемые сухие фоторезистивные плёнки
в обращении проще и быстрее чем лазерно-утюженная технология или сухоплёночная
недостаток- требует мощной уф лампы- от 300вт и более
проблема с пересылкой почтой- в концентрированном виде-как гель
требует аккуратного растворения в большем обьёме воды- что сделать аккуратно не все могут-- нет навыков, мерной хим.посуды итп

можно заказать наложенным платежём

добавлено по просьбе публики

- готовый фоторезист (не гелированный) в таре по 10мл по 100руб без стоимости пересылки плюс кисть специальная для тонкой плёнки
гелированный - 1мл-228руб -будут трудности с точным дозированием в домашних условиях при разведении до рабочего обьёма 35-55мл (нужно умело добавлять сенсибилизатор)--- только для лабораторий
приготовить можно только в лабораторных условиях

10 мл при разрешении 0.08-0.1 мм позволяет получить 0.5-1м² покрытия в зависимости от толщины плёнки кислоторезистивного покрытия

например если травить стекло -плавиковой кислотой то слой лака подложки потребует более толстой плёнки фоторезиста 0.15-0.2мм
для медной фольги достаточно тонкой плёнки 0.08-0.05мм
для аллюминия -тонкой --0.02мм

Хима...